半導体12”及び光エレクトロニクス産業の精密設備に適用、環境や設備の微振動を拡大させず、設備のよい稼働率及び測定設備の識別率を高められます。
  1. 低伝送効率( Z ≦ 4倍(10Hz~100Hz))
  2. 優れた防振效果
  3. 高剛性、優れたアクティブ特性
  4. 同質の台より軽い
  5. オーダーメイド対応可能
  1. 精密電子工場の製造プロセス設備:
    透過式電子顕微鏡(TEM)、原子間力顕微鏡(AFM) 、走査型プローブ顕微鏡(SPM)…等
  2. 半導体製造プロセス用設備:
    スキャナー(SCANNER)、ステッパー(STEPPER)、電子測定装置(CD-SEM)…等
  3. 光エレクトロニクス産業設備:
    露光装置(ALIGNER)、修理装置(REPAIR)、塗布装置(COATER)、PSハイゲージ…等

*ナノレベル精密設備に適用

  台湾新型第183864号
台湾発明第I240783号
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