異物檢查系統主要是應用於近接式(Proximity)曝光製程
利用半導體雷射之遮光量估測以換算表面粗造度。


  ¤因曝光時光罩(Mask)與玻璃基板間距相當小,且玻璃基板也 有其平整度誤差,間距大約維持150μm~200μm之間。
  ¤如果玻璃基板有高度異物存在則在曝光時容易刮傷光罩及造成 玻璃基板破裂,最嚴重時會損傷曝光機Stage(曝光平台),造成機台無法生產。

  1. 設備功能:同動控制系統、光學模組檢測、剛性阻尼架構。
  2. 畫面功能:畫面選擇、參數設定、波形分析、SQL歷史履歷紀錄。
  3. 可接PLC控制設備與即時回傳資訊。
  4. 本系統發現異物檢時傳回CIM系統。
異物檢查系統之開發已於民國100年經SBIR結案驗證通過
其計劃編號:IZ980764
可檢測最大之玻璃尺寸 ≦ 1870mm。

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